Gigaphoton量产型LPP式EUV光源明年年初将开始上市销售

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光刻机光源厂商Gigaphoton公司近日宣称其研发的EUV用LPP光源的残骸消除技术可以去掉工质等离子化时产生的92%有害残骸，其研发的LPP光源使用了电磁场技术来降低残骸的数量，这样一来，这款光源产品将很快投入量产，并于明年年初正式上市（按照Gigaphoton此前公布的Roadmap，这款机型代号应该是GL200E）。

Gigaphoton2010年公布的EUV光源Roadmap

GL200E结构简图

Gigaphoton公司的总裁Yuji Watanabe博士称：“这项新技术的应用，给LPP光源的量产化带来了希望，我们将在我们的EUV光源中应用这种独特的技术，以确保我们的光源产品能够稳定工作并保持较低的成本水平。我认为这种新技术的推出将进一步促进设备厂商尽早启用EUV光刻设备。为了满足我们客户要在明年年初拿到正式产品的要求，Gigaphoton专门为EUV光源初期量产而设立的工厂已经开始启动运作。这也标志着我们公司与EUV有关业务已经正式走上轨道。”

据Gigaphoton介绍，LPP光源使用CO2激光束照射微小的锡珠工质以产生发光等离子体，不过锡珠被激光照射之后的残骸会吸附在LPP光源的汇聚镜片表面，损伤镜片表面的多层薄膜结构，该公司还宣称要想推出量产型EUV用LPP光源，就必须使用其研发的磁场技术。
Gigaphoton采用的残骸消除技术采用固态激光源来产生预脉冲（所谓预脉冲，就是指主脉冲产生前振幅较小的脉冲），配合CO2激光源的主脉冲，以减少激光照射锡珠后产生的锡碎屑和中性锡原子数量，保证锡珠中的锡离子数量最大化，然后再使用电磁场将这些锡离子导向锡离子收集器，再将收集器上收集的锡排出，这样便能最大限度降低镜片上的锡残骸淀积，保护镜片。

Gigaphoton透露，在该光源的验证性试验中，直径仅20um的锡珠工质先后接受作为预脉冲源的固态激光源和作为主脉冲源的CO2激光的照射加热，这样就能完全杜绝被加热后的锡珠产生碎片残骸的现象。Gigaphoton宣称采用这种设计的LPP光源中锡珠的93%部分均会被离子化，此后的电磁场作用则可以将这些锡珠产生的99%比例的锡离子导向到锡收集器中。

不过，除去被离子化的锡之外，剩余的7%未被激光束加热离子化的锡原子则会缓慢地沉积在会聚镜片上，但Gigaphoton可以定期使用蚀刻性的气体来清除这些淀积的锡原子。这样就可以将光源镜片表面的多层膜结构所受到的损坏降低到最低。

CNBeta编译
原文：fabtech


http://it/2011-07-14/1642328.php
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