偷!GE又一华人工程师承认盗窃商业祕密--万维读者网
周四(5月28日),就职于通用电气(GE)全球研究部(既纽约州立大学综合技术学院GE实验室)的42岁的华裔工程师隋洋(Yang Sui,音译)在纽约的联邦法庭认罪,并承认他在2015年至2017年间,从GE窃取了多个与碳化硅MOSFET的研究、设计和制造有关的电子文件。随
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周四(5月28日),就职于通用电气(GE)全球研究部(既纽约州立大学综合技术学院GE实验室)的42岁的华裔工程师隋洋(Yang Sui,音译)在纽约的联邦法庭认罪,并承认他在2015年至2017年间,从GE窃取了多个与碳化硅MOSFET的研究、设计和制造有关的电子文件。随洋并非第一个从GE窃取科技成果的华裔工程师。