茶马盐铁
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信源：搜狐新闻｜编辑：2021-03-10｜
对于国产芯片事业，相信每一个国人都很关注，因为芯片不仅仅是一项尤为关键的核心技术，还和人们的生产生活息息相关。如果没有芯片的支持，或者说国产芯片迟迟无法崛起，那么国内的科技水平就得不到提升，甚至还会被国外“卡脖子”。
美国于去年九月份制定的芯片规则已经证明了这一点，虽然它表面上的目标是国内的华为公司，但实际上它想要的是阻挠国产芯片的突破和进步。一直以来，国内对芯片进口都存在一定的依赖，而美国恰好是最主要的进口来源。
正是因为这种进出口关系，美国才能通过规则来影响我们国内的芯片事业，以华为为首的国产半导体公司不得不砥砺前行。好在现如今国内不仅加大了对芯片产业的扶持力度，还定下了长远的目标，致力于提高芯片的自给率，实现真正的自主化生产。
芯片的生产环节是整个过程中最复杂的，比设计和封测的难度都要高，但同样也是最核心的。其实在芯片设计和封测方面，国内的技术水平并不逊色于国外，例如华为海思就是全球顶尖的设计巨头。唯独在芯片生产领域，国内与国外还存在一定的差距。
这种差距是因为设备和材料而产生的，国内对这两方面的研究不够深入，目前急需突破。材料就不多说了，它是每个半导体公司都非常重视的业务方向，为制造芯片打下了基础。而设备则主要指的是光刻机，没有它就生产不出来任何芯片，其重要性不言而喻。
光刻机被誉为人类工业皇冠上的明珠，放眼全球也只有寥寥几个公司能生产出来，而高端的光刻机技术更是只掌握在荷兰的ASML手上。也就是说，ASML公司的光刻机垄断了整个高端市场，如果得不到它的供应，想要完成芯片制造过程就是难上加难。
之前，国产半导体公司一直想要与ASML建立合作关系，国内最大的芯片代工厂中芯国际还曾向ASML求购一台顶尖的EUV光刻机。但可惜的是，由于美国和相关协议的影响，导致ASML并不能自由出货，国内想买到它的光刻机没那么容易。
不过，随着国内对芯片产业重视程度的加深，如何攻克光刻机的难题也被提上了日程。而就在这个关键时刻，关于光刻机，中国芯片界传来新消息，让很多人都表示：开始攻克了？
首先，第一个消息是中芯历时多年终于与ASML达成了协议，可以向它购买一些半导体设备，用于提升自己的芯片制造水平。虽然日前ASML曾表示此次与中芯签订的协议不包括EUV光刻机，但就算是普通的DUV光刻机，国内的需求也很高。
所以说，不管中芯国际向ASML购买的是普通的还是高端的光刻机，对于国内而言都是一个好消息，或许能够帮助国产芯片再进一步。但需要注意的是，ASML的光刻机终究只是国外的产品，国内必须要坚定自主研发的信念，不能因此而懈怠。
其次，第二个消息是清华大学宣布EUV光源技术取得突破，攻克了EUV光刻机的核心问题。EUV光刻机和普通光刻机最大的区别就在于使用了EUV光源，之前这项技术一直被ASML牢牢掌握在手里，而现在我们国内也有了一定的进展，将来未必不能生产出EUV光刻机。
由此可见，现在国内的光刻机攻关任务可谓是双管齐下，一方面与ASML建立了合作，另一方面自主研发行动正在火热进行。相信要不了多久，真正的国产高端光刻机就会诞生，届时中国芯片将会让全世界为之瞩目！
对于国产芯片事业，相信每一个国人都很关注，因为芯片不仅仅是一项尤为关键的核心技术，还和人们的生产生活息息相关。如果没有芯片的支持，或者说国产芯片迟迟无法崛起，那么国内的科技水平就得不到提升，甚至还会被国外“卡脖子”。
美国于去年九月份制定的芯片规则已经证明了这一点，虽然它表面上的目标是国内的华为公司，但实际上它想要的是阻挠国产芯片的突破和进步。一直以来，国内对芯片进口都存在一定的依赖，而美国恰好是最主要的进口来源。
正是因为这种进出口关系，美国才能通过规则来影响我们国内的芯片事业，以华为为首的国产半导体公司不得不砥砺前行。好在现如今国内不仅加大了对芯片产业的扶持力度，还定下了长远的目标，致力于提高芯片的自给率，实现真正的自主化生产。
芯片的生产环节是整个过程中最复杂的，比设计和封测的难度都要高，但同样也是最核心的。其实在芯片设计和封测方面，国内的技术水平并不逊色于国外，例如华为海思就是全球顶尖的设计巨头。唯独在芯片生产领域，国内与国外还存在一定的差距。
这种差距是因为设备和材料而产生的，国内对这两方面的研究不够深入，目前急需突破。材料就不多说了，它是每个半导体公司都非常重视的业务方向，为制造芯片打下了基础。而设备则主要指的是光刻机，没有它就生产不出来任何芯片，其重要性不言而喻。
光刻机被誉为人类工业皇冠上的明珠，放眼全球也只有寥寥几个公司能生产出来，而高端的光刻机技术更是只掌握在荷兰的ASML手上。也就是说，ASML公司的光刻机垄断了整个高端市场，如果得不到它的供应，想要完成芯片制造过程就是难上加难。
之前，国产半导体公司一直想要与ASML建立合作关系，国内最大的芯片代工厂中芯国际还曾向ASML求购一台顶尖的EUV光刻机。但可惜的是，由于美国和相关协议的影响，导致ASML并不能自由出货，国内想买到它的光刻机没那么容易。
不过，随着国内对芯片产业重视程度的加深，如何攻克光刻机的难题也被提上了日程。而就在这个关键时刻，关于光刻机，中国芯片界传来新消息，让很多人都表示：开始攻克了？
首先，第一个消息是中芯历时多年终于与ASML达成了协议，可以向它购买一些半导体设备，用于提升自己的芯片制造水平。虽然日前ASML曾表示此次与中芯签订的协议不包括EUV光刻机，但就算是普通的DUV光刻机，国内的需求也很高。
所以说，不管中芯国际向ASML购买的是普通的还是高端的光刻机，对于国内而言都是一个好消息，或许能够帮助国产芯片再进一步。但需要注意的是，ASML的光刻机终究只是国外的产品，国内必须要坚定自主研发的信念，不能因此而懈怠。
其次，第二个消息是清华大学宣布EUV光源技术取得突破，攻克了EUV光刻机的核心问题。EUV光刻机和普通光刻机最大的区别就在于使用了EUV光源，之前这项技术一直被ASML牢牢掌握在手里，而现在我们国内也有了一定的进展，将来未必不能生产出EUV光刻机。
由此可见，现在国内的光刻机攻关任务可谓是双管齐下，一方面与ASML建立了合作，另一方面自主研发行动正在火热进行。相信要不了多久，真正的国产高端光刻机就会诞生，届时中国芯片将会让全世界为之瞩目！
