尔必达宣布50nm制程2GbGDDR5显存开发完成

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日本尔必达公司最近完成了采用铜互连技术的50nm制程 2Gb密度GDDR5显存芯片的开发，这款产品据称是在尔必达设在德国慕尼黑的设计中心开发完成的。尔必达表示公司将于今年7月份开始试销这种50nm 2Gb GDDR5显存样片，而这款产品的量产则预计会定在今年7-9月份的时间段。
据尔必达表示，其设在广岛的芯片厂将负责这款2Gb GDDR5显存芯片的生产，另外尔必达还透露公司1Gb密度的GDDR3/GDDR5显存芯片产品已经外包给了台湾华邦公司代工。

GDDR显存的主要用途是图形图像处理如游戏机/PC机平台，以及高性能计算应用，物理建模，数字图像处理，视频转换等应用场合。使用2Gb密度GDDR5显存芯片的显卡产品将比1Gb密度芯片数量相同的同类产品显存容量多出一倍。

CNBeta编译
原文：digitimes

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