NV开普勒28nm图形芯片明年初正式发布

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最新的消息显示，Nvidia旗下代号为“开普勒”（Kepler）的新一代图形芯片目前已经成功流片，采用的是台积电28nm制造工艺。目前开普勒图形 芯片的开发情况相当的良好并没有遭遇任何的重大的问题，不过由于采用了全新的28nm制造工艺开普勒高端图形芯片在初期依然有很多的问题需要解决，其中包 括了Bug修复以及性能的完善和漏电率的控制等。

至于Nvidia这款28nm高端图形芯片开普勒的发布时间目前来看最早会在今年的第四季度，不过业内人士认为这种可能性还是比较低的，因此一方面台积电方面需要时间来让自己的28nm制造工艺成熟起来另外一方面Nvidia方面也有自己的产品发布的计划，因此开普勒高端显卡会在明年初正式发布并上市。

值得关注的是目前的图形芯片都是采用了40nm制造工艺，但是40nm制造工艺已经让图形芯片在性能上遭遇了瓶颈，在这样的情况下28nm制造工艺的到来就显得很有必要也是大势所趋。另外值得关注的是Nvidia的重要竞争对手AMD所推出的28nm制造工艺的图形芯片南方群岛已经被AMD官方多次强调将会在今年年底之前正式发布，不过相比之下Nvidia方面实际上这一次的节奏并没有落后于竞争对手，因此两大巨头之间的一番龙争虎斗必然在明年初拉开序幕。

编译/小熊在线


http://it/2011-06-30/1621386.php
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