中国申请 5nm 芯片直接蚀刻专利。弯道丢弃光刻机

[春夏之交]

 

[superlover]

赞这个“

中国申请 5nm 芯片直接蚀刻专利“​

关心啥时能商用

 

[肥猫]

蚀刻机=/=光刻机

 

[kanatalaker]

屁股脸的东西还是省省吧

 

[welcomelm]

你怎么净引用一些野鸡媒体

 

[七老八十]

你怎么净引用一些野鸡媒体

老向不一直这样，换个马甲就不习惯了？没把他钟爱的那个女vlog给你发出来，你亏大发了

 

[superlover]

在芯片加工过程中，光刻机放样，刻蚀机施工，清洗机清洗。然后反复循环几十次，一般要500道左右的工序，芯片——也就是晶体管的集成电路才能完成。放样达不到精度，刻蚀机就失去用武之地了。

 

[一心无住]

一块一块地刻，效率很低吧。

 

[春夏之交]

你怎么净引用一些野鸡媒体

谁是家鸡谁是野鸡由你定？

 

[阿土仔]

一看这个屁股脸就知道一定是扯蛋，都不用看下去了。

 

[ccc]

5nm 芯片直接蚀刻，笑话。​

当年制作半导体收音机线路板的技术。

 

[光放]

埃，真是愁人呐。搞得清楚技术吗？就来喷？
虽然百分之90以上的专利是垃圾（包括），但是胆敢申请专利起码要有理论上的可行性。
搞得清当前有多少种时刻技术吗？例如，知道什么是聚焦离子束可是吗？搞清楚了这个专利申请用的是哪一种蚀刻技术吗？知道限制蚀刻技术精度的因素是什么吗？

 

[春夏之交]

你还是呆在你的EDFA领域吧。
再愚昧再没商业价值的方法也可以申请专利，nobody cares。 就怕傻逼因此抛出一个弯道超车抛弃EUV光刻机的笑话。

你把我当成任正非了。
你才是真正的傻逼。

 

[光放]

如果

你还是呆在你的EDFA领域吧。
再愚昧再没商业价值的方法也可以申请专利，nobody cares。 就怕傻逼因此抛出一个弯道超车抛弃EUV光刻机的笑话。

哈哈。貌似你是内行人。
清华的等离子体EUV和asml的EUV相比，缺点是没办法做成设备，优点是功率可以做的很大。（起码理论上）。
什么是蚀刻，什么是光刻？所谓光刻通常是通过曝光+蚀刻制作掩模版，然后作晶片蚀刻。因为光源功率的限制，你所说的”就像复印机“目前只有化学蚀刻。
如果哪一天，极大功率等离子体EUV做得出来，难道不可以做到大面积直接蚀刻吗？
你潜意识里把所有的直接蚀刻都假设为逐点扫描？
说到效率和成本，别忘了制作掩模版的成本和工时，别忘了需要极高对位精度的设备和工时成本。

感谢你对我呆在EDFA领域的忠告，我也送你一句话。技术领域说能比说不能容易的多。因为说能，你只需要现有的，你已知的的技术知识就够了。但是，说不能，需要你对至少其中一项关联技术的将来有确定的否定依据。今日不能，不代表明日不能。
例如，千里眼，顺风耳，千里之外杀人于无形这些神话，别说百年前，就是几十年前也没人会相信。

 

[光放]

当然我不是光刻机领域的内行，但是学物理的最大优势是催牛逼。上知天文，下至地理，无所不知，无所不晓。见过肥猪走的本事无人能敌。
我想当然的认为芯片加工中使用掩模版，不是直接光刻胶曝光，蚀刻，然后就利用这层一次性的掩模版直接作芯片蚀刻。
我想，芯片工艺有多少道蚀刻工序，就有多少掩模版。
我还不知道这些掩模版的寿命（他们抗蚀刻的能力）？